MOS FieldEffect Transistors MOSFETs 1 Struktur dan Cara

  • Slides: 19
Download presentation
MOS Field-Effect Transistors (MOSFETs) 1

MOS Field-Effect Transistors (MOSFETs) 1

Struktur dan Cara Kerja Devais MOSFET 2 © 2012 Mervin T Hutabarat

Struktur dan Cara Kerja Devais MOSFET 2 © 2012 Mervin T Hutabarat

Struktur Fisik n Tampak perspektif n Potongan melintang n Nilai Tipikal Teknologi Saat L

Struktur Fisik n Tampak perspektif n Potongan melintang n Nilai Tipikal Teknologi Saat L 0, 03 -1 um, W 0, 1 -100 um, tox 1 -10 nm 3

Tegangan Gate Nol n n Tegangan gate nol drain -source membentuk dioda back-to-back Arus

Tegangan Gate Nol n n Tegangan gate nol drain -source membentuk dioda back-to-back Arus drain-source sangat kecil (nol) 4

Pembentukan Kanal n n n Saat gate mendapat tegangan positif, elektron terkumpul di bawah

Pembentukan Kanal n n n Saat gate mendapat tegangan positif, elektron terkumpul di bawah elektroda gate Bila tegangan melampaui Vt terbentuk kanal dari drain ke source akibat inversi pembawa muatan Devais dengan kanal terbentuk n disebut MOSFET kanal n Tegangan efektif atau overdrive gate Muatan dalam kanal 5

MOSFET dengan v. DS kecil n n Arus kecil mengalir dari drain ke source

MOSFET dengan v. DS kecil n n Arus kecil mengalir dari drain ke source (elektron dari source ke drain) akibat drift Muatan per satuan panjang kanal n Medan listik sepanjang kanal n Laju drift elektron n Arus drain 6

MOSFET dengan v. DS kecil n Arus drain n Transkonduktansi g. DS n Penentu

MOSFET dengan v. DS kecil n Arus drain n Transkonduktansi g. DS n Penentu arus n Plot arus tegangan Parameter transkondutansi proses dan Aspect Ratio Parameter transkonduktansi MOSFET Perilaku mendekati sifat linier resitansi 7

Saat v. DS diperbesar n Tegangan pada ujung kanal source n Tegangan pada ujung

Saat v. DS diperbesar n Tegangan pada ujung kanal source n Tegangan pada ujung kanal drain n Kedalaman kanal tidak sama pada source dan drain dankanal yang terbentuk ‘tapered’. Source lebih dalam karena overdrive voltage lebih besar 8

Perubahan Kanal oleh VDS 9

Perubahan Kanal oleh VDS 9

Kurva i. D vs v. DS untuk VGS > Vt 10

Kurva i. D vs v. DS untuk VGS > Vt 10

Operasi VDS besar (>=VOV) 11

Operasi VDS besar (>=VOV) 11

Struktur Devais PMOS n Tanpa tegangan n Dengan tegangan VSB 12

Struktur Devais PMOS n Tanpa tegangan n Dengan tegangan VSB 12

Penampang CMOS 13

Penampang CMOS 13

Lay Out CMOS Potongan melintang Layout 14

Lay Out CMOS Potongan melintang Layout 14

Penurunan Persamaan Arus Tegangan 15 © 2012 Mervin T Hutabarat

Penurunan Persamaan Arus Tegangan 15 © 2012 Mervin T Hutabarat

Equipotential pada arah y (melebar) Kapasitansi gate-channel (dielektrik Si. O 2) per satuan area

Equipotential pada arah y (melebar) Kapasitansi gate-channel (dielektrik Si. O 2) per satuan area (1) (2) Muatan tersimpan dalam Kapasitor (3) Muatan tersimpan dalam “potongan” equipotensial (4) Figure 4. 8 Derivation of the i. D–v. DS characteristic of the NMOS transistor. 16 Microelectronic Circuits - Fifth Edition Sedra/Smith

Muatan pada celah potongan sehingga Medan listrik pada “potongan” Laju elektron (drift) Karena medan

Muatan pada celah potongan sehingga Medan listrik pada “potongan” Laju elektron (drift) Karena medan listrik Arus drift pada celah “potongan” Figure 4. 8 Derivation of the i. D–v. DS characteristic of the NMOS transistor. Microelectronic Circuits - Fifth Edition Sedra/Smith 17

Arus drain yang disebabkan arus drift pada celah “potongan” dapat disusun menjadi Integrasi dengan

Arus drain yang disebabkan arus drift pada celah “potongan” dapat disusun menjadi Integrasi dengan batas source dan drain atau x antar 0 dan L dan tegangan 0 dan v. DS memberikan Untuk saturasi arus drain menjadi 18 Microelectronic Circuits - Fifth Edition Sedra/Smith

definisi konstanta 19 Microelectronic Circuits - Fifth Edition Sedra/Smith

definisi konstanta 19 Microelectronic Circuits - Fifth Edition Sedra/Smith