PHNG PHP PHN X MAGNETRON RF TRONG CH

  • Slides: 35
Download presentation

PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON RF TRONG CHẾ TẠO MÀNG MỎNG GVHD: PGS. TS.

PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON RF TRONG CHẾ TẠO MÀNG MỎNG GVHD: PGS. TS. Lê Văn Hiếu Học viên: Phùng Nguyễn Thái Hằng

NỘI DUNG: I. PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ I. 1 Phún xạ là gì ?

NỘI DUNG: I. PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ I. 1 Phún xạ là gì ? I. 2 Hệ số phún xạ I. 3 Phún xạ Magnetron II. PHÚN XẠ MAGNETRON RF II. 1 Khái niệm II. 2 Cấu tạo II. 3 Sơ đồ hoạt động II. 4 Nguyên tắc hoạt động III. KHÓ KHĂN TRONG PP RF IV. SO SÁNH PHÚN XẠ MAGNETRON RF VỚI DC

I. PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ I. 1 Khái niệm về phún xạ

I. PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ I. 1 Khái niệm về phún xạ

Hình ảnh mô tả Sự Phún xạ Đế Ar+ BIA 5

Hình ảnh mô tả Sự Phún xạ Đế Ar+ BIA 5

I. 2 Hệ số phún xạ s là hệ số phún xạ nα là

I. 2 Hệ số phún xạ s là hệ số phún xạ nα là số nguyên tử bị phún xạ ni là số ion đập vào bề mặt cathode

Hệ số phún xạ s phụ thuộc vào : üBản chất của vật liệu

Hệ số phún xạ s phụ thuộc vào : üBản chất của vật liệu phún xạ üLoại ion và năng lượng của ion bắn phá lên bia üGóc đập của ion lên bề mặt cathode üPhụ thuộc vào áp suất khí làm việc

Sự phụ thuộc của một số loại vật liệu làm bia vào sự phún

Sự phụ thuộc của một số loại vật liệu làm bia vào sự phún xạ

Ảnh hưởng của năng lượng ion vào sự phún xạ

Ảnh hưởng của năng lượng ion vào sự phún xạ

Sự phụ thuộc góc tới vào sự phún xạ Hệ số phún xạ đạt

Sự phụ thuộc góc tới vào sự phún xạ Hệ số phún xạ đạt giá trị cao nhất ở vào khoảng góc tới có giá trị 720

I. 3 Phún xạ Magnetron

I. 3 Phún xạ Magnetron

II PHÚN XẠ MAGNETRON RF II. 1 Khái niệm II. 2 Cấu tạo hệ

II PHÚN XẠ MAGNETRON RF II. 1 Khái niệm II. 2 Cấu tạo hệ phún xạ Magnetron RF

a/ Buồng phún xạ

a/ Buồng phún xạ

b/ Một số loại đế dùng trong hệ phún xạ Đế Ceramic (gốm)

b/ Một số loại đế dùng trong hệ phún xạ Đế Ceramic (gốm)

Đế Silicon Đế thủy tinh

Đế Silicon Đế thủy tinh

c/ Bia

c/ Bia

d/Bộ phận tạo chân không : Thường dùng 2 loại bơm: ØBơm sơ cấp

d/Bộ phận tạo chân không : Thường dùng 2 loại bơm: ØBơm sơ cấp (bơm rote hoặc bơm quay dầu) ØBơm khuếch tán

Một số thông số của bơm chân không dùng trong hệ phún xạ Magnetron:

Một số thông số của bơm chân không dùng trong hệ phún xạ Magnetron: v. Bơm sơ cấp (Bơm Rote, bơm quay dầu): üTốc độ : 30 m 3/h. üÁp suất tới hạn: 10 -2 torr v. Bơm khuếch tán: ü Tốc độ : 200 l/sec ü Áp suất tới hạn : 10 -10 torr v. Chân không phún xạ: ü Chân không tới hạn : 10 -7 torr üChân không làm việc : 10 -2 10 -3 torr

e/ Bộ phận Magnetron

e/ Bộ phận Magnetron

Cấu trúc của một số hệ Magnetron thông thường

Cấu trúc của một số hệ Magnetron thông thường

f/ Plasma:

f/ Plasma:

Vùng plasma giữa 2 vùng tối

Vùng plasma giữa 2 vùng tối

Sơ đồ cấu tạo và nguyên lý hoạt động của phún xạ Magnetron RF

Sơ đồ cấu tạo và nguyên lý hoạt động của phún xạ Magnetron RF

II. 3 Sơ đồ của hệ phún xạ Magnetron RF

II. 3 Sơ đồ của hệ phún xạ Magnetron RF

Thế RF tại cathode

Thế RF tại cathode

SƠ ĐỒ: üBia: Được gắn vào một bản giải nhiệt. Bản giải nhiệt được

SƠ ĐỒ: üBia: Được gắn vào một bản giải nhiệt. Bản giải nhiệt được gắn vào cathode üTừ trường do một vòng nam châm bên ngoài bao quanh và khác cực với nam châm ở giữa. Chúng được nối với nhau bằng một tấm sắt, có tác dụng khép kín đường sức từ phía dưới üĐế: Được áp vào điện cực anode

Đế (Athod) N (Kathod) S N N (b) (a) Hình 2 Heä magnetron phaúng

Đế (Athod) N (Kathod) S N N (b) (a) Hình 2 Heä magnetron phaúng vaø caùc ñöôøng söùc töø treân beà maët bia Sơ đồ một hệ Magnetron N

II. 4 Nguyên tắc hoạt động Đế t. Ar KhíAr Ar Ar Khí N

II. 4 Nguyên tắc hoạt động Đế t. Ar KhíAr Ar Ar Khí N 2 N t. N e- Ar+ e- 13. 56 MHz Ar N+ Khí bên ngoài S N S Bơm CKhông

Đặc trưng của vùng phún xạ Vùng I: Vùng sụt thế Cathode Vùng II:

Đặc trưng của vùng phún xạ Vùng I: Vùng sụt thế Cathode Vùng II: Vùng ion hóa Vùng III: Vùng plasma

Hình ảnh về sự phún xạ

Hình ảnh về sự phún xạ

III. KHÓ KHĂN TRONG PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON RF • Áp suất thấp,

III. KHÓ KHĂN TRONG PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON RF • Áp suất thấp, khoảng từ 5 -15 m. Torr. Điều này đòi hỏi phải hút chân không cao • Số electron theo thời gian tích tụ nhiều trên bản cực làm hủy sự tái phún xạ • Ion dương đập vào phá hủy màng

IV. SO SÁNH GIỮA PHÚN XẠ MAGNETRON RF VÀ DC Phún xạ RF Không

IV. SO SÁNH GIỮA PHÚN XẠ MAGNETRON RF VÀ DC Phún xạ RF Không sử dụng trực tiếp cho các vật liệu điện môi Có thể sử dụng cho các vật liệu điện môi, kim loại và bán dẫn Hoạt động chủ yếu là dựa vào electron bị bứt ra do ion dương bị va đập vào điện cực Hoạt động chủ yếu là dựa vào thế hiệu dịch Bị dập tắt nguồn Vùng tối cách điện giữa đế và vùng plasma làm cho chất lượng màng tốt

TÀI LIỆU THAM KHẢO Một số sách và luận văn: [1] Trần Định Tường,

TÀI LIỆU THAM KHẢO Một số sách và luận văn: [1] Trần Định Tường, Màng mỏng quang học, NXBKHKT Hà Nội, 2004 [2] Võ Thị Kim Chung, Luận văn Thạc sĩ Khoa Học Tự Nhiên, Tổng hợp màng mỏng Ti. O 2 Bằng pp phún xạ Magnetron-mạ ion, Trường ĐH KHTN TPHCM, 1999 [3] Th. S Vũ Thị Hạnh Thu, các bài giảng về Vật Lý Màng Mỏng, Trường ĐH KHTN TPHCM [4] Lê Phương Ngọc, Nguyễn Thị Thu Thảo, Khóa Luận Tốt Nghiệp [5] Nguyễn Ngọc Thùy Trang, Khóa Luận tốt nghiệp [6] Lê Vũ Tuấn Hùng, Nguyễn Văn Đến, Huỳnh Thành Đạt, Nghiên cứu chế tạo màng mỏng Ti. O 2 bằng phương pháp phún xạ Magnetron RF, Tạp chí phát triển KH&CN , tập 9, số 6/2006

 • Một số trang web: http: //vi. wikipedia. org/wiki/M%C 3%A 0 ng_m%E 1%BB%8

• Một số trang web: http: //vi. wikipedia. org/wiki/M%C 3%A 0 ng_m%E 1%BB%8 Fn g http: //vi. wikipedia. org/wiki/Ph%C 3%BAn_x%E 1%BA%A 1_c at%E 1%BB%91 t http: //en. wikipedia. org/wiki/Sputtering http: //en. wikipedia. org/wiki/Radio_frequency www. freepatentsonline. com http: //www. lermps. com/PHP/HTML/textes. php? ref=process _depot+phase+vapeur. xls http: //www. ajaint. com/whatis. htm