TRNG I HC KHOA HC T NHIN KHOA

  • Slides: 59
Download presentation
TRƯỜNG ĐẠI HỌC KHOA HỌC TỰ NHIÊN KHOA VẬT LÝ BỘ MÔN VẬT LÝ

TRƯỜNG ĐẠI HỌC KHOA HỌC TỰ NHIÊN KHOA VẬT LÝ BỘ MÔN VẬT LÝ ỨNG DỤNG MÔN : CÁC PP THỰC NGHIỆM CHUYÊN NGÀNH NGHIÊN CỨU TÍNH CHẤT QUANG ĐIỆN CỦA MÀNG Ti. N GVHD : TS Lê Trấn HVTH : Phạm Văn Thịnh

NỘI DUNG I. GIỚI THIỆU MÀNG Ti. N II. CÁC PHƯƠNG PHÁP XÁC ĐỊNH

NỘI DUNG I. GIỚI THIỆU MÀNG Ti. N II. CÁC PHƯƠNG PHÁP XÁC ĐỊNH TÍNH CHẤT CỦA MÀNG III. ỨNG DỤNG TỪ MỘT SỐ TÍNH CHẤT CỦA MÀNG Ti. N 1. Màng phản xạ trong hệ màng đa lớp 2. Màng Ti. N trên dụng cụ cắt gọt

Lưu lại thông tin cần thiết: Địa chỉ bạn đã tải: http: //mientayvn. com/Cao%20

Lưu lại thông tin cần thiết: Địa chỉ bạn đã tải: http: //mientayvn. com/Cao%20 hoc%20 quang%20 dien%20 tu/Semina%20 tren%20 lop/seminar. html Nơi bạn có thể thảo luận: http: //myyagy. com/mientay/ Dịch tài liệu trực tuyến miễn phí: http: //mientayvn. com/dich_tieng_anh_chuyen_nghanh. html Dự án dịch học liệu mở: http: //mientayvn. com/OCW/MIT/Co. html Liên hệ với người quản lí trang web: Yahoo: thanhlam 1910_2006@yahoo. com Gmail: frbwrthes@gmail. com

I. GIỚI THIỆU MÀNG Ti. N Một số tính chất của màng Ti. N

I. GIỚI THIỆU MÀNG Ti. N Một số tính chất của màng Ti. N : • Màng Ti. N là vật liệu có màu của kim lọai vàng, độ cứng cao (21 - 24 GPa) • Chịu nhiệt cao (nhiệt nóng chảy là 29500 C) • Chống ăn mòn cao, oxy hóa chậm (bắt đầu oxy hóa ở 8000 C) và có điện trở suất khá nhỏ (20 30µΩ. cm) • Độ phản xạ cao trong vùng hồng ngoại, chiết suất thấp và hệ số tắt cao

Cấu trúc tinh thể của Ti. N: Có cấu trúc của muối ăn (Na.

Cấu trúc tinh thể của Ti. N: Có cấu trúc của muối ăn (Na. Cl) : • Ti lấp đầy những vị trí trong mạng lập phương tâm mặt (fcc) • N lấp đầy vị trí bát diện

II. CÁC PHƯƠNG PHÁP XÁC ĐỊNH TÍNH CHẤT CỦA MÀNG 1. Xác định thông

II. CÁC PHƯƠNG PHÁP XÁC ĐỊNH TÍNH CHẤT CỦA MÀNG 1. Xác định thông số quang học • 1. 1. Phương pháp phổ truyền qua - Xác định được các thông số quang học của màng mỏng (độ dày, chiết suất, hệ số hấp thụ, hệ số tắt…) tiến hành xác định phổ truyền qua của màng. Từ các thông số của phổ truyền qua thu được và bằng pp tính toán ta sẽ xác định được các thông số quang học của màng. - Sử dụng máy quang phổ truyền qua Hewlett Packard

1. 2. Phương pháp Ellipsometry

1. 2. Phương pháp Ellipsometry

Chiết suất n, hệ số tắt k của Ti. N thay đổi theo bước

Chiết suất n, hệ số tắt k của Ti. N thay đổi theo bước sóng.

2. Phương pháp xác định cấu trúc màng • 2. 1. Phương pháp nhiễu

2. Phương pháp xác định cấu trúc màng • 2. 1. Phương pháp nhiễu xạ tia X Công thức Sherrer:

2. 2. Phương pháp Stylus

2. 2. Phương pháp Stylus

2. 3. Phép đo hiệu ứng Hall Ở trạng thái cân bằng: Ta có

2. 3. Phép đo hiệu ứng Hall Ở trạng thái cân bằng: Ta có :

2. 4. Phương pháp sử dụng phần mềm khớp phổ Scout • Mục đích:

2. 4. Phương pháp sử dụng phần mềm khớp phổ Scout • Mục đích: Xđ độ dày, chiết suất, độ rộng vùng cấm, điện trở suất, nồng độ hạt tải và độ linh động. • Nguyên tắc: - Khai báo các dữ liệu - Xđ loại phổ cần khớp, vẽ phổ lý thuyết của nó dựa trên các thsố đã khai báo - Chọn các thsố muốn khớp sao cho phổ lí thuyết trùng với phổ thực nghiệm nhất. - Thay đổi dần các thsố để kết quả khớp là tốt nhất. Từ đó ta xđ được các thsố của màng.

II. CÁC PHƯƠNG PHÁP XÁC ĐỊNH TÍNH CHẤT CỦA MÀNG 3. Xác định điện

II. CÁC PHƯƠNG PHÁP XÁC ĐỊNH TÍNH CHẤT CỦA MÀNG 3. Xác định điện trở suất • 3. 1. Phương pháp đo điện trở vuông

3. 2. Phương pháp đo bốn mũi dò Với : G : Số hiệu

3. 2. Phương pháp đo bốn mũi dò Với : G : Số hiệu chỉnh (tùy thuộc vào hình dạng và kích thước của mẫu)

III. ỨNG DỤNG • Ti. N được ứng dụng trong những lĩnh vực sau:

III. ỨNG DỤNG • Ti. N được ứng dụng trong những lĩnh vực sau: • Màng phản xạ hồng ngoại trong hệ màng đa lớp. • Màng cứng phủ trên những dụng cụ cắt gọt, khoan, cưa, nghiền… • Màng chống ăn mòn. • Hàng rào khuyếch tán trong vi mạch và công nghệ IC • Trang trí trên kim loại, oxit kim loại

1. Màng phản xạ trong hệ màng đa lớp 1. 1. Giới thiệu 1.

1. Màng phản xạ trong hệ màng đa lớp 1. 1. Giới thiệu 1. 2. Thực nghiệm và kết quả • 1. 2. 1. Tính chất điện • 1. 2. 2. Tính chất quang 1. 3. Kết luận

1. 1. Giới thiệu Màng gương nóng truyền qua: • Màng có độ truyền

1. 1. Giới thiệu Màng gương nóng truyền qua: • Màng có độ truyền qua cao ở vùng khả kiến (bước sóng: 380 nm ≤ λ ≤ 760 nm) và phản xạ cao ở vùng hồng ngoại ( λ ≥ 760 nm). • Mục đích: Tiết kiệm điện năng tiêu thụ từ lò sưởi (vùng khí hậu lạnh) và từ máy lạnh (vùng khí hậu nóng) là vấn đề đang được quan tâm nhiều hiện nay

Ba hướng tạo màng gương nóng truyền qua: • Màng dẫn điện như: Bạc,

Ba hướng tạo màng gương nóng truyền qua: • Màng dẫn điện như: Bạc, vàng và đồng. . (màng kim loại thường không bền về nhiệt, cơ và hóa học) • Màng bán dẫn có độ phản xạ cao ở vùng hồng ngọai như: Mg. O, Zn. O, Ni. O, Si. O. . (Màng bán dẫn phản xạ cao ở vùng bước sóng λ> 2000 nm) • Màng đa lớp điện môi- kim loại -điện môi : Si. O 2/Al/Si. O 2, Al 2 O 3/Mo/Al 2 O 3, Ti. O 2/Ag/Ti. O 2, Al 2 O 3/Cu/Al 2 O 3…

Màng đa lớp Ti. O 2/Ti. N/Ti. O 2 • Màng đa lớp có

Màng đa lớp Ti. O 2/Ti. N/Ti. O 2 • Màng đa lớp có khả năng khắc phục được nhược điểm của màng bán dẫn pha tạp là có vùng bước sóng phản xạ rộng λ> 760 nm nhưng bền hơn màng kim loại về cơ, nhiệt và hóa học. • Ti. O 2 có chiết suất cao nên khử phản xạ tốt và nó là màng có độ bền cơ học cao • Ti. N có độ bền cơ học, hóa học lẫn nhiệt học rất cao

1. 2. Thực nghiệm và kết quả Phương pháp phún xạ phản ứng Magnetron

1. 2. Thực nghiệm và kết quả Phương pháp phún xạ phản ứng Magnetron DC • Hệ chân không có áp suất tới hạn 10 -4 torr • Bia Titanium, độ tinh khiết 99. 6%, kích thước bia 100 x 6(mm). • Khí làm việc Argon (99. 99%) và khí hoạt tính Nitơ (99. 99%), tỉ lệ khí N 2 so với Ar thay đổi từ 5% từ 15%. • Hệ Magnatron có kích thước 119 x 51(mm), từ trường do nam châm vĩnh cửu Ferit (350 Gauss)

Phún xạ phản ứng Magnetron DC:

Phún xạ phản ứng Magnetron DC:

Lý do chọn pp Phún xạ • Cần chế tạo màng Ti. N có

Lý do chọn pp Phún xạ • Cần chế tạo màng Ti. N có chiết suất thấp, hệ số tắt k lớn ↔ màng có điện trở suất thấp hay độ phản xạ cao ở vùng hồng ngọai. Do đó, màng Ti. N phải có cấu trúc đặc, tức là mật độ khối lớn → cần phải tạo màng theo cơ chế nhiệt động học và động học. • Giảm điện trở suất của màng chủ yếu áp dụng cơ chế động học → tăng cường mật độ ion năng lượng cao đến màng → sử dụng hệ magnetron gần cân bằng • Chỉ sử dụng một loại bia nguyên liệu là Ti. N (Ngay cả khi tạo màng đa lớp Ti. O 2/Ti. N/Ti. O 2)

Hệ magnetron cân bằng Hệ magnetron không cân bằng (hướng vô) Điện trường Từ

Hệ magnetron cân bằng Hệ magnetron không cân bằng (hướng vô) Điện trường Từ trường khép kín Các e chịu tác dụng của từ trường ngang Từ trường không khép kín Các e ít chịu tác dụng của từ trường ngang Đế ít bị e va đập e chủ yếu chuyển động gần bia Đế bị nhiều e va đập mạnh e theo điện trường đến đế với v lớn Đế ít bị đốt nóng Thích hợp tạo màng cho các loại đế không chịu được T 0 cao: nhựa, giấy, … Đế bị đốt nóng Thích hợp tạo các màng yêu cầu T 0 cao

1. 2. Thực nghiệm và kết quả • Quá trình tạo màng với áp

1. 2. Thực nghiệm và kết quả • Quá trình tạo màng với áp suất 3. 10 -3 torr đến 6. 10 -3 torr, • Thế phún xạ thay đổi từ 350 V đến 650 V, Ø Bề dày màng được xác định bằng phương pháp Stylus. Ø Điện trở mặt của màng được xác định bằng phương pháp bốn mũi dò. Ø Cấu trúc tinh thể và kích thước hạt của màng xác định từ phổ nhiễu xạ tia X. Chiết suất n và hệ số tắt k xác định bằng pp Ellipsometry

1. 2. 1. Tính chất điện Khảo sát ảnh hưởng của thế phún xạ

1. 2. 1. Tính chất điện Khảo sát ảnh hưởng của thế phún xạ theo tỉ lệ khí Nitơ và Argon:

Khảo sát ảnh hưởng của thế phún xạ theo tỉ lệ khí Nitơ và

Khảo sát ảnh hưởng của thế phún xạ theo tỉ lệ khí Nitơ và Argon: • Điện trở suất giảm theo thế phún xạ, là do sự truyền xung lượng giữa ion và nguyên tử Titan tăng, làm tăng độ linh động của nguyên tử hấp thụ Titan trên bề mặt, dẫn đến phản ứng giữa Titan và Nitơ tăng cho màng hợp thức tốt • Kết quả cho thấy với tỉ lệ % của Nitơ và Ar là 10 thì thế phún xạ ngưỡng là 550 V, khi đó màng có điện trở suất thấp nhất

Phổ nhiễu xạ của các màng Ti. N được tạo theo thế phún xạ

Phổ nhiễu xạ của các màng Ti. N được tạo theo thế phún xạ khác nhau và các thông số: tỉ lệ N 2/Ar là 10%; áp suất làm việc p=3 mtorr:

Khảo sát ảnh hưởng của thế phún xạ theo tỉ lệ khí Nitơ và

Khảo sát ảnh hưởng của thế phún xạ theo tỉ lệ khí Nitơ và Argon: • Khi tăng thế phún xạ đạt đến giá trị ngưỡng, cơ chế trung hòa Auger xảy ra có nghĩa là điện tử dẫn điện thứ nhất từ Ti chuyển qua trạng thái cơ bản của ion N 2 bằng hiệu ứng đường hầm, trung hòa nó và đồng thời trao năng lượng thừa cho điện tử thứ hai trong vùng dẫn điện, kích thích nó lên miền năng lượng liên tục. • Vậy, khi tăng thế phún xạ, Nguyên tử trung hòa N 2 giải phóng từ bề mặt bia Ti và được cấp năng lượng cỡ thế áp vào bia

Khảo sát sự ảnh hưởng của điện trở suất theo khoảng cách bia đế

Khảo sát sự ảnh hưởng của điện trở suất theo khoảng cách bia đế

Phổ nhiễu xạ của màng Ti. N được tạo với các thông số: Up=550

Phổ nhiễu xạ của màng Ti. N được tạo với các thông số: Up=550 V ; tỉ lệ N 2/Ar là 10%; p=3 mtorr, 2000 C. khoảng cách bia và đế thay được : h=3, 5 cm; h=4, 5 cm; h=5, 5 cm

Khảo sát sự ảnh hưởng của điện trở suất theo nhiệt độ Sự ảnh

Khảo sát sự ảnh hưởng của điện trở suất theo nhiệt độ Sự ảnh hưởng của điện trở suất theo nhiệt độ đế:

Phổ nhiễu xạ của các Ti. N với các thông số: Up=550 V; tỉ

Phổ nhiễu xạ của các Ti. N với các thông số: Up=550 V; tỉ lệ N 2/Ar là 10%; p = 3 mtorr; khoảng cách bia đế là h=4, 5 cm ; nhiệt độ thay đổi từ 2000 C đến 4000 C

Khảo sát sự ảnh hưởng điện trở suất theo áp suất phún xạ:

Khảo sát sự ảnh hưởng điện trở suất theo áp suất phún xạ:

Phổ nhiễu xạ của các màng Ti. N được tạo theo áp suất phún

Phổ nhiễu xạ của các màng Ti. N được tạo theo áp suất phún xạ và các thông số: Up= 550 V; tỉ lệ N 2/Ar là 10%, khỏang cách bia đế h =4, 5 cm; nhiệt độ 2000 C

1. 2. 2. Tính chất quang Chiết suất n và hệ số tắt k

1. 2. 2. Tính chất quang Chiết suất n và hệ số tắt k của màng mỏng Ti. N Chiết suất n và hệ số tắt k của mẫu L 1 theo bước sóng

Chiết suất n và hệ số tắt k của màng mỏng Ti. N •

Chiết suất n và hệ số tắt k của màng mỏng Ti. N • Từ công thức thực nghiệm: Rs là điện trở mặt của màng →khi màng có Rs nhỏ thì hệ số phản xạ R lớn

Phổ phản xạ của mẫu L 1 theo bước sóng

Phổ phản xạ của mẫu L 1 theo bước sóng

Phổ phản xạ của mẫu L 4 theo bước sóng

Phổ phản xạ của mẫu L 4 theo bước sóng

1. 3. KẾT LUẬN • Màng Ti. N tạo được có cấu trúc tinh

1. 3. KẾT LUẬN • Màng Ti. N tạo được có cấu trúc tinh thể cao, tồn tại đủ các mặt mạng (111), (200) và (311). • Màng có điện trở suất thấp ρ=35µΩ. cm ứng với các thông số tạo màng tối ưu: Thế phún xạ ngưỡng Up=550 V, tỉ lệ N 2/Ar = 10%, khoảng cách giữa bia đế h = 4, 5 cm, áp suất phún xạ tòan phần P = 3. 10 -3 torr, nhiệt độ đế 2000 C. • Chiết suất và hệ số tắt của màng ở bước sóng 550 nm là 1, 14 và 2, 13.

Lieân heä giöõa tính chaát quang vaø ñieän: Theo lý thuyết Drude và

Lieân heä giöõa tính chaát quang vaø ñieän: Theo lý thuyết Drude và

Lieân heä giöõa tính chaát quang vaø ñieän: - tần số cộng hưởng plasma

Lieân heä giöõa tính chaát quang vaø ñieän: - tần số cộng hưởng plasma - hằng số điện môi trong môi trường và chân không - khối lượng hiệu dụng của các hạt mang điện N - mật độ hạt mang điện - thời gian hồi phục

Vùng hấp thụ Với Hagen-Rubens hay <<

Vùng hấp thụ Với Hagen-Rubens hay <<

Đối với màng rất mỏng Hagen-Rubens trở kháng phông chính là trở kháng của

Đối với màng rất mỏng Hagen-Rubens trở kháng phông chính là trở kháng của không gian tự do Do RS << Z 0 Màng có điện trở mặt nhỏ hay có độ dẫn điện tốt, cho kết quả phản xạ cao

Vùng phản xạ va khi bề dày của màng lớn hơn bề dày lớp

Vùng phản xạ va khi bề dày của màng lớn hơn bề dày lớp da thì hệ số phản xạ sẽ là : Hê sô pha n xa R lơ n, đô c lâ p vơ i bươ c

Vùng truyền qua va Trường hợp này vật liệu gần như trong suốt

Vùng truyền qua va Trường hợp này vật liệu gần như trong suốt

2. Màng Ti. N trên dụng cụ cắt gọt • 2. 1. Giới thiệu

2. Màng Ti. N trên dụng cụ cắt gọt • 2. 1. Giới thiệu • 2. 2. Thực nghiệm và kết quả. • 2. 3. Kết luận

2. 1. Giới thiệu • Nghiên cứu để tạo các loại màng phức hợp

2. 1. Giới thiệu • Nghiên cứu để tạo các loại màng phức hợp (composite) có độ cứng, độ chống mài mòn…cao để phủ lên các vật liệu khối có thể giòn, dễ gãy… nhưng rẻ tiền để tăng hiệu quả của sản phẩm • Ti. N độ cứng cỡ 2300 HV (so với Kim cương 10. 000 HV) →phủ màng Ti. N lên vật liệu bằng thép thường, thép vận tốc cao (HSS) và tungsten carbide (WC) bằng phương pháp phún xạ mạ ion (SIP-Sputter Ion Plating)

2. 1. Giới thiệu • Một số loại mũi khoan đã được phủ màng

2. 1. Giới thiệu • Một số loại mũi khoan đã được phủ màng Ti. N: • Vật liệu bằng thép thường, thép vận tốc cao (HSS) và tungsten carbide (WC)

Phương pháp phún xạ mạ ion (SIPSputter Ion Plating) • Cơ chế tương tự

Phương pháp phún xạ mạ ion (SIPSputter Ion Plating) • Cơ chế tương tự phún xạ Magnetron phẳng. Tuy nhiên nó còn kết hợp thêm một thế hiệu dịch âm đặt lên đế phủ màng. • Tác dụng: - Thế âm áp vào để thay đổi dòng và năng lượng của hạt phún xạ (thế âm cỡ -5→-300 V) làm giảm sự bắn phá đế bởi ion →tăng mật độ màng, màng phẳng hơn, tăng độ bám dính. . - Thế âm áp lên đế đủ để giải hấp những loại khí hấp phụ trên đế, đồng thời làm tăng năng lượng bề mặt đế, giúp tăng cường khuyếch tán bề mặt của các nguyên tử bia.

2. 2. Thực nghiệm và kết quả • Hệ sử dụng là hệ magnetron

2. 2. Thực nghiệm và kết quả • Hệ sử dụng là hệ magnetron phẳng: Ñeá (Anod) N (Kathod) S N N N

Phún xạ mạ ion (Ion Plating) Ti N 2 Ti. N Ưu điểm: không

Phún xạ mạ ion (Ion Plating) Ti N 2 Ti. N Ưu điểm: không đốt nóng trực tiếp vật liệu, không gây phản ứng giữa chất bay hơi với thuyền nung như trong kỹ thuật nhiệt bốc bay nên tạo màng hợp kim khá dễ dàng, phản ứng được kích hoạt bằng plasma và thế nên nhiệt độ đế rất thấp so với phương pháp CVD phải kích hoạt phản ứng bằng nhiệt độ

Các thông số tối ưu cho quá trình tạo màng: • • • Dòng

Các thông số tối ưu cho quá trình tạo màng: • • • Dòng phóng điện Ia: 0, 8 → 1, 2 A Áp suất khí còn lại: 10 -5 torr Áp suất khí làm việc: 10 -3 → 5. 10 -3 torr Khoảng giữa bia và đế h: 3 → 5 cm Thời gian phủ màng: 60 phút Thế dịch của đế Vd: -100 V Thế của bia: -480 → -540 V Tỷ lệ hỗn hợp khí Nitơ và Argon ban đầu: 1/8 Vật liệu đế: Thép thường, WC (tungsten carbide), HSS (high speed steel)

Yêu cầu màng Ti. N: 1. Ứng suất • Ứng suất là lực tác

Yêu cầu màng Ti. N: 1. Ứng suất • Ứng suất là lực tác dụng lên một đơn vị diện tích của mặt cắt dọc có thứ nguyên là lực (N/m 2 hay Pa). Ứng suất phụ thuộc vào đại lượng (∆x/x). Do đó dựa vào dạng ứng suất ta thấy: Ứng suất nén là âm, ứng suất căng là dương. • Ứng suất cần thiết cho màng mỏng phủ lên dụng cụ cắt gọt là ứng suất nén.

Yêu cầu màng Ti. N: 2. Độ cứng § Độ cứng là thước đo

Yêu cầu màng Ti. N: 2. Độ cứng § Độ cứng là thước đo sức bền của vật liệu khi bị va chạm hay bị trầy xước § Độ cứng bản chất của màng Ti. N phụ thuộc vào áp suất riêng phần của Nitơ trong quá trình tạo màng, vì trong các hợp thức được tạo ra giữa nitơ và titan thì Ti. N là hợp thức có độ cứng cao nhất.

Độ cứng màng thay đổi theo nhiệt độ:

Độ cứng màng thay đổi theo nhiệt độ:

2. 3. Kết luận Thí nghiệm đạt được kết quả tốt với những vật

2. 3. Kết luận Thí nghiệm đạt được kết quả tốt với những vật liệu sau: • Mạ Ti. N trên đế thép thường (của Đức và Liên Xô) • Mạ Ti. N trên đế WC • Mạ Ti. N trên đế HSS Khả năng sử dụng tăng lên gấp 10 lần

CAÛM ÔN THAÀY VAØ CAÙC BAÏN !!

CAÛM ÔN THAÀY VAØ CAÙC BAÏN !!