1 X nm DRAM EUV 3 150 3

시장성/사업성 세계 반도체 시장의 매출 증가 1 X nm급의 DRAM 개발로 EUV 공정 필수 § 세계 반도체 시장의 매출: 3, 150억 달러 → 3, 398억달러(2013년 대비 7. 9% 증가) § 현재 반도체 미세공정 경쟁: DRAM은 20 nm, NAND-Flash는 3차원 적층 → Ar. F(더블 패터닝 (DPT), 쿼드러블패터닝 (QPT) 등)로 구현가능 → 하지만 궁극적으로 1 X nm 이하 공정에서는 EUV 활용 필수임 패터닝 (DPT), 쿼드러블패터닝 (QPT) 등이 활용 § EUV 장비 시장: 양산형 EUV 장비 시장 형성 예상(2015) → EUV 노광장비 본격 적용 (2016)_ASML § 국내 개발 현황: 삼성전자/SK하이닉스 1 X nm급 미세패턴 형성 연구중 → EUV 노광기 구입하여 시험가동 중 → EUV용 마스크 필수 관련 특허 & 논문 특허 특허 논문 논문 KR 10 -1490603 KR 10 -1511426 Journal of Vacuum Science & Technology B Applied Physics Express 극자외선 노광 공정용 마스크 Improved Imaging Properties of Thin Attenuated Phase Shift Masks for Extreme Ultraviolet Lithography Very-thin EUV mask absorber material for extremely fine pitch patterning Stochastic Patterning Simulation Using Attenuated Phase -Shift Mask for Extreme Ultraviolet Lithography Attenuated phase-shift mask for mitigation of photon shot noise effect in contact hole pattern for extreme ultraviolet lithography 대표연구자 정보 안진호 교수(한양대학교 신소재공학부, 산학협력단장) § EUVL Test Bed 구축 및 평가기술 개발 및 기술이전 § 절연막의 적층증착에 의한 저항 메모리 소자의 제조방법 개발 및 기술이전 § NEC의 microelectronics 연구소 연구원 재직 Name : 이현규 연구원 Tel : 02 -736 -9845 E-mail : hglee@compa. re. kr 특허법인 리온 Name : 방찬영 팀장 Tel : 070 -7730 -6228 E-mail : cybang@leeon. kr